2022年10月31日

双面抛光机的主要技术性能-北京特思迪设备制造有限公司

双面抛光机的主要技术性能

应用范围:

双面抛光机主要适用于硅片、石英晶片、光学晶体、玻璃、宝石、铌酸锂、砷化镓、薄脆金属或非金属,如研磨或抛光陶瓷片。

双面抛光机的主要特点

1.采用四动抛光原理;两台电机上下拖动抛光盘。

2.双面抛光机龙门箱结构配备大功率减速系统,软启动,双面抛光机采用自动供应抛光液装置,软停机,运行平稳,可根据计时器随意设置抛光时间。

3.用防腐材料或表面处理与抛光液接触的零件。

4.双面抛光机通过精密称重传感器和高精度气动控制系统实现压力闭环反馈控制,保证工件压力的准确性。

5.双面抛光机主要采用强制集中润滑。

6.双面抛光机的抛光液体系统有独立的搅拌液体系统,循环水冷却,可选的抛光液加热和抛光液温度检测功能。

技术参数:

1.抛光拖动电机:5.5KW380V1440rpm。

2.太阳轮拖动电机:2.2KW380V1440rpm。

3.游轮参数:公制Z=114M=2。

4.游轮数量:5片。

5.抛光厚度:0..4mm/φ75mm。

6.下抛盘转速范围:0-50rpm。

7.空气源压力:空气源压力:.5—0.6Mpa。

8.下抛盘端面跳动:≤0.04mm。

9.下抛平面度:0.015mm。


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