2022年09月27日

双面抛光机的加工原理-北京特思迪设备制造有限公司

双面抛光机加工依赖于工件、研磨颗粒、抛光液和抛光盘的机械作用,在工件抛光过程中产生局部高温和高压。物理和化学变化直接发生在工件和抛光液和抛光盘之间,导致工件表面的物理和化学变化。

由于机械和化学的重叠,工件表面的反应不断磨损,使工件表面光滑[2]。双面抛光技术是在单面抛光技术的基础上发展起来的,因为它可以有效地避免应力差和粘结误差引起的变形。因此,与单面抛光相比,双面抛光具有加工效率高、表面变形小、加工表面超光滑等优点。

一般来说,双面抛光机由四个部分组成:承载工件和下抛光盘的工作台、承载上抛光盘、驱动工件旋转的行星轮和提供抛光液的装置。在双面抛光过程中,由于抛光液与抛光垫之间的物理运动,抛光液中的化学溶液和研磨颗粒在工件中发生化学变化。同时,在上抛光盘对工件的旋转压力作用下,去除工件表面产生的化学反应物。

双面抛光机原理是,在不断的化学变化中,工件表面产生化学膜。由于旋转机械摩擦去除化学膜,超精密表面不断交替获得。这种超精密表面处理也被称为游离磨料CMP。在这种加工中,不能选择比工件硬度高的磨粒,只能选择比工件软或相当于磨粒硬度的磨粒。

在机械化学的双重作用下,工件表面不断产生非常薄的化学薄膜,同时去除,实现非常薄的表面处理,实现高精度、低表面粗糙度、无表面处理缺陷的工件表面。

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